离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能
来源期刊：机械工程材料2006年第5期
论文作者：宗瑞磊 唐宾 朱晓东 何家文 田林海
关键词：离子束辅助磁控溅射; 铬-铜-氮薄膜; 硬度; 断裂韧度;
摘 要：应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响.结果表明:在相同的轰击能量(400eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400 eV增加到800 eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高.
宗瑞磊1，唐宾2，朱晓东1，何家文1，田林海1
(1.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;
2.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024)
摘要:应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响.结果表明:在相同的轰击能量(400eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400 eV增加到800 eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高.
关键词:离子束辅助磁控溅射; 铬-铜-氮薄膜; 硬度; 断裂韧度;
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