微机电系统用TbCu7型SmCo基薄膜的合成（英文）
来源期刊：稀有金属材料与工程2013年第3期
论文作者：彭龙 李乐中 陈松 李元勋
文章页码：462 - 465
关键词：SmCo合金;永磁薄膜;溅射;MEMS;
摘 要：微机电系统(MEMS)的发展要求Si基片上的永磁薄膜具有良好的热稳定性。采用磁控溅射工艺在单晶Si(100)基片上沉积了SmCo基永磁薄膜,研究了溅射参数对薄膜沉积速率、微观结构、晶体结构和磁性能的影响。结果表明:通过调整溅射参数可以获得TbCu7型结构的SmCo基永磁薄膜。该薄膜具有良好的晶粒取向和微观结构,因而获得了较好的面内磁性能,其反磁化过程主要受控于畴壁钉扎机制。
彭龙，李乐中，陈松，李元勋
成都信息工程学院
摘 要：微机电系统(MEMS)的发展要求Si基片上的永磁薄膜具有良好的热稳定性。采用磁控溅射工艺在单晶Si(100)基片上沉积了SmCo基永磁薄膜,研究了溅射参数对薄膜沉积速率、微观结构、晶体结构和磁性能的影响。结果表明:通过调整溅射参数可以获得TbCu7型结构的SmCo基永磁薄膜。该薄膜具有良好的晶粒取向和微观结构,因而获得了较好的面内磁性能,其反磁化过程主要受控于畴壁钉扎机制。
关键词：SmCo合金;永磁薄膜;溅射;MEMS;
