直流磁控溅射法制备高品质钛铝共掺杂氧化锌透明导电薄膜
来源期刊：材料导报2011年第S1期
论文作者：袁文峰 王振环
文章页码：319 - 321
关键词：TAZO薄膜;透明导电薄膜;磁控溅射;偏压;
摘 要：利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上成功制备出高品质的钛铝共掺杂氧化锌（TAZO）透明导电薄膜。XRD研究结果表明,TAZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构的多晶薄膜,偏压为-20V时制备的厚度为365nm的薄膜的方块电阻为10.15Ω/□,最小电阻率为3.70×10-4Ω·cm,所有薄膜样品在500～800nm的可见光平均透过率都超过了92%。
袁文峰，王振环
山东理工大学理学院
摘 要：利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上成功制备出高品质的钛铝共掺杂氧化锌（TAZO）透明导电薄膜。XRD研究结果表明,TAZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构的多晶薄膜,偏压为-20V时制备的厚度为365nm的薄膜的方块电阻为10.15Ω/□,最小电阻率为3.70×10-4Ω·cm,所有薄膜样品在500～800nm的可见光平均透过率都超过了92%。
关键词：TAZO薄膜;透明导电薄膜;磁控溅射;偏压;
