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柔性衬底PET上低温沉积ZnxCd1-xO透明导电薄膜

来源期刊:无机材料学报2008年第2期

论文作者:张品 陈敏梅 周强 季振国

关键词:直流磁控溅射; 柔性衬底; ZnCdO薄膜; 透明导电膜;

摘    要:利用直流反应磁控溅射在柔性衬底(聚乙烯对苯二酸脂,PET)上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的ZnxCd1-xO薄膜,并研究了Zn含量x对ZnxCd1-xO薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能的影响.XRD分析结果表明,当x<0.65时,薄膜为CdO结构,但x>0.65时,薄膜为高度取向的ZnO结构.Hall效应测试显示,当x≤0.5时,薄膜的载流子浓度很高,电阻率为10-3Ω·cm的数量级;迁移率随x增加先增大.在x=0.5处达到极大值,然后随x的增加而降低.紫外可见透射谱表明,掺zn后的ZnxCd1-xO薄膜在整个可见光波段内的透过率远远高于纯CdO薄膜的透过率.综合分析结果表明,x=0.5是低温制备的低阻、高透光性能薄膜的最佳Zn含量.

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柔性衬底PET上低温沉积ZnxCd1-xO透明导电薄膜

张品1,陈敏梅2,周强1,季振国2

(1.浙江大学,硅材料国家重点实验室,杭州,310027;
2.杭州电子科技大学,电子信息学院,杭州310018)

摘要:利用直流反应磁控溅射在柔性衬底(聚乙烯对苯二酸脂,PET)上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的ZnxCd1-xO薄膜,并研究了Zn含量x对ZnxCd1-xO薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能的影响.XRD分析结果表明,当x<0.65时,薄膜为CdO结构,但x>0.65时,薄膜为高度取向的ZnO结构.Hall效应测试显示,当x≤0.5时,薄膜的载流子浓度很高,电阻率为10-3Ω·cm的数量级;迁移率随x增加先增大.在x=0.5处达到极大值,然后随x的增加而降低.紫外可见透射谱表明,掺zn后的ZnxCd1-xO薄膜在整个可见光波段内的透过率远远高于纯CdO薄膜的透过率.综合分析结果表明,x=0.5是低温制备的低阻、高透光性能薄膜的最佳Zn含量.

关键词:直流磁控溅射; 柔性衬底; ZnCdO薄膜; 透明导电膜;

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