Ta缓冲层厚度对FeMn/NiFe体系交换偏置的影响

来源期刊：功能材料2016年第7期

论文作者：杨素分 陈冷

文章页码：7061 - 7065

关键词：交换偏置;多层膜;织构;界面粗糙度;晶粒尺寸;

摘    要：用X射线衍射仪、原子力显微镜和磁强计研究了Ta缓冲层厚度变化时,Ta/FeMn/NiFe/Ta多层膜微观结构和磁性能的变化,分析了其微观结构和磁性能之间的关系。实验结果表明,随Ta缓冲层厚度增加,FeMn层织构、晶粒尺寸、位错密度、应变和界面粗糙度都发生明显变化,并且这些变化影响了多层膜的偏置场(Hex)和矫顽力(Hc)的大小。结合实验现象和交换偏置(EB)的物理本质,讨论了微观结构对交换偏置的影响机理。