难熔金属溅射靶材的应用及制备技术
来源期刊：中国钨业2019年第1期
论文作者：王晖 夏明星 李延超 刘啸锋 蔡小梅 白润 张新
文章页码：64 - 69
关键词：难熔金属;磁控溅射;靶材;集成电路;太阳能电池;
摘 要：应用于微电子、集成电路、光伏电池、平面显示器、装饰镀膜玻璃等行业的溅射靶材需求量逐年增大,这些行业对溅射用难熔金属靶材的纯度、致密度、尺寸精度、微观组织、结晶取向等性能提出了更高的要求。综述了磁控溅射用W、Mo、Ta、Nb靶材的主要应用研发生产单位和制备技术,介绍了靶材组织、纯度等因素对薄膜性质的影响。
王晖，夏明星，李延超，刘啸锋，蔡小梅，白润，张新
摘 要：应用于微电子、集成电路、光伏电池、平面显示器、装饰镀膜玻璃等行业的溅射靶材需求量逐年增大,这些行业对溅射用难熔金属靶材的纯度、致密度、尺寸精度、微观组织、结晶取向等性能提出了更高的要求。综述了磁控溅射用W、Mo、Ta、Nb靶材的主要应用研发生产单位和制备技术,介绍了靶材组织、纯度等因素对薄膜性质的影响。
关键词：难熔金属;磁控溅射;靶材;集成电路;太阳能电池;
