沉积法制备TaN薄膜的研究现状及其应用

来源期刊：材料导报2010年第13期

论文作者：高亮 杨建广 陈胜龙 杨济豪 吴玉山

文章页码：20 - 25

关键词：PVD;MOCVD;ALD;TaN薄膜;前驱体;

摘    要：TaN薄膜是一种重要的高新技术材料,主要介绍了物理气相沉积法(PVD)、金属有机化学气相沉积法(MOCVD)和原子层沉积法(ALD)制备TaN薄膜的工艺技术,评述了它们各自的优缺点。从前驱体的选择方面详细评述了MOCVD法和ALD法制备TaN薄膜的研究进展,比较和评述了各类前驱体的优缺点。总结了TaN薄膜的应用现状以及薄膜制备过程中的主要影响因素,并简要展望了其发展方向。