化学还原法制备纳米铜粉的研究
来源期刊：材料科学与工程学报2003年第1期
论文作者：谢成文 黄钧声 任山
关键词：纳米; 铜粉; 化学还原法; 制备;
摘 要：本文采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH和络合剂E D T A,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质.制备的纳米铜粉还存在一定程度的团聚,需试验加入分散剂来改善.
谢成文1，黄钧声1，任山2
(1.广东工业大学材料学院,广州,510643;
2.中山大学物理系,广州,510275)
摘要:本文采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH和络合剂E D T A,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质.制备的纳米铜粉还存在一定程度的团聚,需试验加入分散剂来改善.
关键词:纳米; 铜粉; 化学还原法; 制备;
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