波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术
来源期刊：材料导报2009年增刊第1期
论文作者：雷洁红 唐永建 吴卫东 邢丕峰
关键词：软X射线多层膜; 表面粗糙度; 制备技术; soft X-ray multilayers; surface roughness; preparative technology;
摘 要：软X射线短波段区域(1～10nm)高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义.该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散,实现膜厚控制,从而严格限制了制备技术的应用.介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术,主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延,对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向.
雷洁红1，唐永建1，吴卫东1，邢丕峰1
(1.中国工程物理研究院,绵阳,621900)
摘要:软X射线短波段区域(1～10nm)高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义.该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散,实现膜厚控制,从而严格限制了制备技术的应用.介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术,主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延,对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向.
关键词:软X射线多层膜; 表面粗糙度; 制备技术; soft X-ray multilayers; surface roughness; preparative technology;
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