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制备参数对磁控溅射CoSi2薄膜织构的影响

来源期刊：理化检验物理分册2005年第4期

论文作者：常继程凡雄姜传海吴建生

关键词：织构; CoSi2薄膜; X射线衍射; 磁控溅射;

摘要：采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响.结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构.织构的形成受溅射参数的影响.溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈.当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程.

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常继¹，程凡雄¹，姜传海¹，吴建生¹

(1.上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室,上海,200030)

摘要:采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响.结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构.织构的形成受溅射参数的影响.溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈.当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程.

关键词:织构; CoSi2薄膜; X射线衍射; 磁控溅射;

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