磁控溅射制备Cu2O和Cu2O/TiO2复合膜及其光催化活性
来源期刊：无机材料学报2012年第4期
论文作者：刘灿 魏子栋 张骞 胡宝山 齐学强 陈四国 丁炜
文章页码：395 - 399
关键词：磁控溅射;氧化亚铜;复合薄膜;光催化;
摘 要：采用直流反应磁控溅射的方法在普通玻璃上沉积得到Cu2O、TiO2和Cu2O/TiO2复合薄膜.用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和X射线能谱仪（EDS）对薄膜的晶体结构、表面形态和薄膜元素组成进行了分析.XRD结果表明,当反应溅射时间为5 min时,Cu2O薄膜由单一的（111）晶面组成;反应时间的延长促进了Cu2O（110）和（220）晶面的生长.通过计算得出Cu2O（111）更有利于对O2的吸附.进一步使用氙灯作为光源,用薄膜对亚甲基蓝（MB）的降解率来表征光催化活性.结果表明,Cu2O/TiO2复合薄膜的光催化效果随着Cu2O含量的增加升高而后降低,当Cu2O含量为2.6mol%时,光催化活性最高.光催化效率的提高主要归因于Cu2O的加入引起光生电子-空穴的分离,而过量的Cu2O会延长光生电子迁移到Cu2O/TiO2界面和空穴迁移至表面所需要的时间,使电子和空穴复合的几率增大,从而降低了量子效率.
刘灿，魏子栋，张骞，胡宝山，齐学强，陈四国，丁炜
重庆大学输配电装备及系统安全与新技术国家重点实验室化学化工学院
摘 要：采用直流反应磁控溅射的方法在普通玻璃上沉积得到Cu2O、TiO2和Cu2O/TiO2复合薄膜.用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和X射线能谱仪（EDS）对薄膜的晶体结构、表面形态和薄膜元素组成进行了分析.XRD结果表明,当反应溅射时间为5 min时,Cu2O薄膜由单一的（111）晶面组成;反应时间的延长促进了Cu2O（110）和（220）晶面的生长.通过计算得出Cu2O（111）更有利于对O2的吸附.进一步使用氙灯作为光源,用薄膜对亚甲基蓝（MB）的降解率来表征光催化活性.结果表明,Cu2O/TiO2复合薄膜的光催化效果随着Cu2O含量的增加升高而后降低,当Cu2O含量为2.6mol%时,光催化活性最高.光催化效率的提高主要归因于Cu2O的加入引起光生电子-空穴的分离,而过量的Cu2O会延长光生电子迁移到Cu2O/TiO2界面和空穴迁移至表面所需要的时间,使电子和空穴复合的几率增大,从而降低了量子效率.
关键词：磁控溅射;氧化亚铜;复合薄膜;光催化;
