热等静压处理对U/Al镀层界面特性的影响
来源期刊：腐蚀科学与防护技术2009年第5期
论文作者：刘婷婷 王庆富 张羽廷 谢东华 张鹏程
关键词：热等静压; U/hl镀层; 界面特性;
摘 要：采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线结构衍射仪(XRD)及拉伸实验等方法,研究了铀(U)上磁控溅射Al镀层在480℃,2小时,60 MPa条件下热等静压(HIP)处理对界面特性以及膜基结合强度的影响.结果表明:经HIP处理后,镀层密度达到了其理论密度;镀层由柱状晶转变为致密的层状结构,在界面处Al、U元素形成了互扩散,并生成了金属间化合物UAl2和UAl3;膜基结合形成了冶金结合,结合强度有所增强.
刘婷婷1，王庆富2，张羽廷1，谢东华2，张鹏程1
(1.表面物理与化学国家重点实验室,绵阳,621900;
2.中国工程物理研究院,绵阳,621900)
摘要:采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线结构衍射仪(XRD)及拉伸实验等方法,研究了铀(U)上磁控溅射Al镀层在480℃,2小时,60 MPa条件下热等静压(HIP)处理对界面特性以及膜基结合强度的影响.结果表明:经HIP处理后,镀层密度达到了其理论密度;镀层由柱状晶转变为致密的层状结构,在界面处Al、U元素形成了互扩散,并生成了金属间化合物UAl2和UAl3;膜基结合形成了冶金结合,结合强度有所增强.
关键词:热等静压; U/hl镀层; 界面特性;
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