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化学刻蚀制备黑硅材料的研究现状及展望

来源期刊：材料导报2012年第21期

论文作者：李学铭廖承菌唐利斌杨培志

文章页码：142 - 147

关键词：黑硅;化学刻蚀;金属催化;微纳结构;

摘要：基于黑硅材料的发展,讨论了国内外化学刻蚀制备黑硅的研究进展,包括掩膜辅助、金属离子辅助化学刻蚀。结果表明,黑硅材料的表面特殊结构能够有效降低硅表面的反射率,从而提高太阳能电池转换效率。此外,化学刻蚀法制备黑硅简便易行、成本低廉,高效可靠,具有良好的发展前景。

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李学铭^1,2，廖承菌^1,2，唐利斌³，杨培志^1,2

1. 云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室2. 云南师范大学太阳能研究所3. 昆明物理研究所

关键词：黑硅;化学刻蚀;金属催化;微纳结构;