FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜的应力阻抗效应研究
来源期刊：材料导报2010年第12期
论文作者：刘均东 张万里 彭斌
文章页码：20 - 22
关键词：FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜;应力阻抗效应;柔性基片;
摘 要：采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁磁层厚度的增加而增强,同时应力阻抗效应也与测试频率密切相关。
刘均东，张万里，彭斌
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
摘 要：采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁磁层厚度的增加而增强,同时应力阻抗效应也与测试频率密切相关。
关键词：FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜;应力阻抗效应;柔性基片;
