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基质匹配顶空-气相色谱法测定纺织品中DMF,DMAC与NMP

来源期刊:分析试验室2015年第3期

论文作者:马明 周宇艳 赵洁 刘敏华

文章页码:336 - 339

关键词:基质匹配;顶空-气相色谱法;纺织品;DMF;DMAC;NMP;

摘    要:建立了基质匹配顶空-气相色谱法同时测定纺织品中N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)与N-甲基吡咯烷酮(NMP)残留。剪碎样品后,在190℃下加热30 min,使3种溶剂在气固两相间达到平衡,取顶空气体进气相色谱以氮磷检测器检测。以基体匹配校正法消除基质效应,以保留时间定性,外标法定量。DMF,DMAC,NMP在0.4500.0μg范围内线性关系良好;3种物质的平均回收率为89.6%96.1%;RSD(n=6)为1.6%3.1%;DM F,DM AC与NM P方法检出限均为0.5μg/g。

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基质匹配顶空-气相色谱法测定纺织品中DMF,DMAC与NMP

马明,周宇艳,赵洁,刘敏华

上海出入境检验检疫局工业品与原材料检测技术中心

摘 要:建立了基质匹配顶空-气相色谱法同时测定纺织品中N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)与N-甲基吡咯烷酮(NMP)残留。剪碎样品后,在190℃下加热30 min,使3种溶剂在气固两相间达到平衡,取顶空气体进气相色谱以氮磷检测器检测。以基体匹配校正法消除基质效应,以保留时间定性,外标法定量。DMF,DMAC,NMP在0.4500.0μg范围内线性关系良好;3种物质的平均回收率为89.6%96.1%;RSD(n=6)为1.6%3.1%;DM F,DM AC与NM P方法检出限均为0.5μg/g。

关键词:基质匹配;顶空-气相色谱法;纺织品;DMF;DMAC;NMP;

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