亚波长分辨光刻介质特性研究
来源期刊：功能材料2012年第9期
论文作者：王向贤 石洪菲 张斗国 明海
文章页码：1177 - 1180
关键词：光刻胶;显影速度;对比度;膜厚;折射率;
摘 要：利用365nm波段光源、扫描电镜、台阶仪、原子力显微镜和椭偏仪,研究了亚波长分辨光刻介质X AR-N 7700/30型光刻胶的显影速度、对比度、薄膜厚度和折射率等化学、物理特性参数。光刻胶未曝光部分显影速度为23.15nm/s,曝光部分为1.85nm/s,光刻胶的对比度高达2.5,稀释至30%的质量浓度时,光刻胶可旋涂成45nm厚的薄膜。
王向贤1,2，石洪菲3，张斗国1，明海1
1. 中国科学技术大学光学与光学工程系2. 巢湖学院电子工程与电气自动化学院3. 中国科学院物理研究所
摘 要：利用365nm波段光源、扫描电镜、台阶仪、原子力显微镜和椭偏仪,研究了亚波长分辨光刻介质X AR-N 7700/30型光刻胶的显影速度、对比度、薄膜厚度和折射率等化学、物理特性参数。光刻胶未曝光部分显影速度为23.15nm/s,曝光部分为1.85nm/s,光刻胶的对比度高达2.5,稀释至30%的质量浓度时,光刻胶可旋涂成45nm厚的薄膜。
关键词：光刻胶;显影速度;对比度;膜厚;折射率;
