化学气相沉积法制备钨系列产品特点及工艺分析
来源期刊：稀有金属与硬质合金2013年第6期
论文作者：陈志刚 颜彬游 冯振雷
文章页码：17 - 21
关键词：钨系列产品;化学气相沉积法;工艺流程;设备体系;材料特性;
摘 要：介绍了利用化学气相沉积(CVD)法制备钨系列产品(包括钨管、钨坩埚、钨异型件等纯钨产品和铜基/钨基/钼基/石墨基等涂层产品)的工艺流程及设备体系。CVD法制得的钨系列产品特点有:密度高,其密度值达到理论密度的98.5%以上;纯度高,钨含量达到99.999 9%;微观组织为柱状晶或多层柱状晶结构;涂层类产品钨与基体结合强度高。
陈志刚，颜彬游，冯振雷
厦门钨业股份有限公司
摘 要：介绍了利用化学气相沉积(CVD)法制备钨系列产品(包括钨管、钨坩埚、钨异型件等纯钨产品和铜基/钨基/钼基/石墨基等涂层产品)的工艺流程及设备体系。CVD法制得的钨系列产品特点有:密度高,其密度值达到理论密度的98.5%以上;纯度高,钨含量达到99.999 9%;微观组织为柱状晶或多层柱状晶结构;涂层类产品钨与基体结合强度高。
关键词：钨系列产品;化学气相沉积法;工艺流程;设备体系;材料特性;
