Ni-SiO2复合镀工艺研究
来源期刊：材料保护2003年第5期
论文作者：李卫东 吴慧敏 周运鸿 李迎春 胡卫华 杨磊 刘仁志 左正忠
关键词：电沉积; 复合镀层; SiO2微粒;
摘 要：研究了Watts型镀镍液中SiO2微粒在镀层中的含量与阴极电流密度的关系,以及镀液的pH值、搅拌速度、电流密度、微粒悬浮量、添加剂等工艺条件和参数对Ni-SiO2复合镀层的影响,确定了其最佳镀液组成和工艺参数;SEM能量色散检测表明,制备的镀层中SiO2质量含量在10%～20%.镀层的外观均匀、细致,并有金属光泽.
李卫东1，吴慧敏1，周运鸿1，李迎春1，胡卫华1，杨磊2，刘仁志2，左正忠1
(1.武汉大学化学系,湖北,武汉,430072;
2.武汉风帆电镀技术有限公司,湖北,武汉,430015)
摘要:研究了Watts型镀镍液中SiO2微粒在镀层中的含量与阴极电流密度的关系,以及镀液的pH值、搅拌速度、电流密度、微粒悬浮量、添加剂等工艺条件和参数对Ni-SiO2复合镀层的影响,确定了其最佳镀液组成和工艺参数;SEM能量色散检测表明,制备的镀层中SiO2质量含量在10%～20%.镀层的外观均匀、细致,并有金属光泽.
关键词:电沉积; 复合镀层; SiO2微粒;
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