二甲基亚砜中半导体上脉冲电沉积Bi薄膜
来源期刊:材料保护2003年第5期
论文作者:潘文杰 袁定胜 童叶翔 刘冠昆 刘鹏
关键词:化学镀; 电沉积; 铋;
摘 要:从原有的化学镀铜的工业配方出发,对其用量进行改良,特别是镀液的pH值调试,配体的使用和还原剂的用量,在硅片上沉积出一层光亮而且致密的铜薄膜.结果表明,在二甲基亚砜中硅铜基体上的电沉积铋薄膜均匀、致密、粘附力强,XRD测试表明铋以晶体析出.
潘文杰1,袁定胜1,童叶翔1,刘冠昆1,刘鹏1
(1.中山大学化学与化学工程学院,广东,广州,510275)
摘要:从原有的化学镀铜的工业配方出发,对其用量进行改良,特别是镀液的pH值调试,配体的使用和还原剂的用量,在硅片上沉积出一层光亮而且致密的铜薄膜.结果表明,在二甲基亚砜中硅铜基体上的电沉积铋薄膜均匀、致密、粘附力强,XRD测试表明铋以晶体析出.
关键词:化学镀; 电沉积; 铋;
【全文内容正在添加中】