偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响
来源期刊：材料科学与工艺2008年第6期
论文作者：李伟力 郑晓航 周庚衡 薛宗伟
文章页码：773 - 1555
关键词：Fe-N薄膜;偏压;膜厚;表面粗糙度;磁性能;
摘 要：为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏压有利于薄膜中非晶的形成,且随着偏压的增大,薄膜的厚度增加,表面粗糙度降低.Fe-N薄膜的磁性能表明,随着偏压的增加,薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均有不同程度的减小.偏压的增加导致Fe-N薄膜由晶态向非晶态转变,从而引起磁性能的改变.
李伟力1，郑晓航2，周庚衡1，薛宗伟1
1. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院2. 吉林大学材料科学系
摘 要：为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏压有利于薄膜中非晶的形成,且随着偏压的增大,薄膜的厚度增加,表面粗糙度降低.Fe-N薄膜的磁性能表明,随着偏压的增加,薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均有不同程度的减小.偏压的增加导致Fe-N薄膜由晶态向非晶态转变,从而引起磁性能的改变.
关键词：Fe-N薄膜;偏压;膜厚;表面粗糙度;磁性能;
