旋转喷镀NiZnCo铁氧体颗粒膜的等效磁导率

王鲜¹，栗海峰²，冯则坤¹，龚荣洲¹，沈翔¹，何华辉¹

(1.华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;
2.中国地质大学,材料科学与化学工程学院,湖北,武汉,430074)

摘要:通过低温(90℃)旋转喷雾镀覆方法成功地将尖晶石NiZnCo铁氧体颗粒薄膜沉积在外加2.38×104A/m偏置场的玻璃衬底上.制备的薄膜有1.27×102Ω·cm高的电阻率,2.78×105A/m大的饱和磁化强度和692.52A/m低的矫顽力.由弱交变磁场作用下磁畴转动磁化强度的进动方程,建立了铁氧体膜高频等效磁导率的计算模型.在50MHz～5GHz频率范围通过短路微带线法测量了薄膜的复数磁导率.薄膜的复磁导率的实部μ''在300MHz处高达80.9,而薄膜的共振频率高达2.1GHz.薄膜的磁损耗μ"在共振频率处达到最大值61.7,且在1～3.5GHz宽频范围μ"＞15.测量结果和模型计算结果比较有相同的共振频率和相同数量级的磁导率.由于μ"×f和噪声吸收成比例,这种软磁薄膜可应用于微波频段的电磁干扰抑制器.

关键词:NiZnCo铁氧体薄膜; 旋转喷镀法; 等效复磁导率; 计算;

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