矩形铁氧体衬底抗蚀剂的旋涂特性

来源期刊：磁性材料及器件2012年第3期

论文作者：倪经 魏恭 陈彦 周俊 谭士杰

文章页码：37 - 39

关键词：铁氧体衬底;光刻;抗蚀剂;旋涂;

摘    要：采用半导体工艺的旋转涂胶法,在矩形铁氧体衬底上旋涂抗蚀剂,研究了其涂覆特性,给出了抗蚀剂的厚度与旋涂转速和旋涂时间的关系曲线及均匀性。随着旋涂转速的提高,抗蚀剂的厚度逐渐减薄;当旋涂转速大于2500r/min时,抗蚀剂厚度差小于5%。同时,随着旋涂时间的延长,抗蚀剂厚度也会减小,并最终趋向一个恒定值;当旋涂时间长于20s时,抗蚀剂厚度差小于5%。最后,分析了旋涂中心对抗蚀剂旋涂性能的影响。