简介概要

表面态对碳纳米管场发射的影响

来源期刊:材料导报2011年第4期

论文作者:贺叶露 王蜀霞 陈伟中 陈西浩 杜声玖

文章页码:64 - 155

关键词:碳纳米管;吸附;场发射;密度泛函理论;

摘    要:采用CVD法在Ni丝上直接沉积碳纳米管,并应用二极管结构测试表面态(突出尖端和吸附)对碳纳米管场发射的影响。测试表明,突出尖端主要影响碳纳米管场发射的开启电场以及场发射电流稳定性;吸附作用的影响表现在改变碳纳米管能带结构进而改变其场发射性能。

详情信息展示

表面态对碳纳米管场发射的影响

贺叶露,王蜀霞,陈伟中,陈西浩,杜声玖

重庆大学数理学院应用物理系

摘 要:采用CVD法在Ni丝上直接沉积碳纳米管,并应用二极管结构测试表面态(突出尖端和吸附)对碳纳米管场发射的影响。测试表明,突出尖端主要影响碳纳米管场发射的开启电场以及场发射电流稳定性;吸附作用的影响表现在改变碳纳米管能带结构进而改变其场发射性能。

关键词:碳纳米管;吸附;场发射;密度泛函理论;

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号