合成金刚石晶体缺陷的同步辐射形貌研究
来源期刊:材料工程2009年第4期
论文作者:贾晓鹏 黄万霞 张明 袁清习 马红安 于万里
关键词:合成金刚石; 同步辐射; 位错; 形貌像; 生长带;
摘 要:采用同步辐射白光貌相术研究合成金刚石单晶体中的晶体缺陷,观察到晶体中存在籽晶,籽晶周围存在着大量的位错线.位错线起源于籽晶表面,终止于晶体表面.计算了位错束的空间走向和位错密度.分析了晶体的生长阶段和影响晶体缺陷的主要因素,指出通过减少籽晶表面的缺陷,保持生长条件的稳定,能够有效地降低合成金刚石晶体中缺陷的密度,提高合成金刚石晶体的完整性.
贾晓鹏1,黄万霞2,张明3,袁清习2,马红安1,于万里3
(1.吉林大学,超硬材料国家重点实验室,长春,130023;
2.中国科学院,高能物理研究所,北京,100039;
3.燕山大学,亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室,河北,秦皇岛,066004)
摘要:采用同步辐射白光貌相术研究合成金刚石单晶体中的晶体缺陷,观察到晶体中存在籽晶,籽晶周围存在着大量的位错线.位错线起源于籽晶表面,终止于晶体表面.计算了位错束的空间走向和位错密度.分析了晶体的生长阶段和影响晶体缺陷的主要因素,指出通过减少籽晶表面的缺陷,保持生长条件的稳定,能够有效地降低合成金刚石晶体中缺陷的密度,提高合成金刚石晶体的完整性.
关键词:合成金刚石; 同步辐射; 位错; 形貌像; 生长带;
【全文内容正在添加中】