织构和界面粗糙度对NiFe/FeMn双层膜交换偏置场的影响
来源期刊：功能材料2002年第2期
论文作者：姜宏伟 赖武彦 李明华 于广华 朱逢吾
关键词：NiFe/FeMn; 交换偏置场; 织构; 界面粗糙度;
摘 要：采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜(分别以Ta、Cu作为缓冲层,Ta作为保护层).实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场大,而矫顽力却很小.我们从织构、界面粗糙度两方面对其中的原因进行了分析.以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜有好的织构且NiFe/FeMn界面较平滑,这引起了较强的交换偏置场和较低的矫顽力.
姜宏伟1，赖武彦1，李明华2，于广华3，朱逢吾3
(1.中国科学院物理研究所,北京,100080;
2.北京科技大学材料物理系,北京,100083中国科学院物理研究所,北京,100080;
3.北京科技大学材料物理系,北京,100083)
摘要:采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜(分别以Ta、Cu作为缓冲层,Ta作为保护层).实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场大,而矫顽力却很小.我们从织构、界面粗糙度两方面对其中的原因进行了分析.以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜有好的织构且NiFe/FeMn界面较平滑,这引起了较强的交换偏置场和较低的矫顽力.
关键词:NiFe/FeMn; 交换偏置场; 织构; 界面粗糙度;
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