氧化铋薄膜的制备及退火温度对其物相和表面形貌的影响

来源期刊：机械工程材料2013年第2期

论文作者：陈瑞芳 徐瑞丽 刘海霞 花银群 崔晓

文章页码：13 - 16

关键词：氧化铋;薄膜;磁控溅射;退火温度;

摘    要：采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50 mm、厚度为3 mm的Bi₂O₃陶瓷靶,利用该陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si（111）基体上制备了氧化铋薄膜,研究了溅射压力为0.8 Pa时的氧分压对薄膜物相的影响,并探讨了退火温度（350～550℃）对薄膜的物相和表面形貌的影响。结果表明:随着氧分压从0增大到0.36 Pa,薄膜由BiO相逐渐变成α-Bi₂O₃相;随着退火温度的升高,薄膜中出现了新的物相,仍为多相结构,不同相的衍射峰半高宽变化有增有减;薄膜的晶粒尺寸随退火温度的升高而增大。