磁控溅射制备NiO/Ni多层膜的结构和光电性能

来源期刊：稀有金属材料与工程2014年第7期

论文作者：赵志明 马二云 张晓静 张国君 游才印 白力静 蒋百灵

文章页码：1732 - 1735

关键词：NiO/Ni纳米多层膜;微观结构;光电性能;磁控溅射;

摘    要：利用反应磁控溅射和常规磁控溅射方法交替沉积了NiO/Ni纳米多层膜,研究了不同退火环境下多层膜的相结构、微观结构演化及光电性能。XRD和TEM结果表明,沉积态薄膜呈现明显的NiO和Ni交替多层结构;大气退火的NiO/Ni多层膜被氧化成沿（111）晶面择优生长的NiO薄膜;而真空退火的NiO/Ni薄膜仍然保持着明显的多层结构,各层膜的结晶程度提高。沉积态和真空退火态的NiO/Ni多层膜呈现低可见光透过率和低电阻率的特点,电阻率达到10-5?·cm数量级;大气退火的NiO/Ni多层膜呈现49.3%可见光平均透过率和高的电阻特性。