磁控溅射制备Ru-B薄膜的研究
来源期刊:贵金属2013年第2期
论文作者:殷聪朋 管伟明 张俊敏 刘洪江 陈勇 张昆华
文章页码:5 - 23
关键词:金属材料;超硬薄膜;磁控溅射;Ru-B薄膜;表面形貌;
摘 要:采用射频磁控溅射技术制备了Ru-B薄膜,利用掠入射X射线衍射(GIXRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进行了研究分析。结果表明:在室温下制备的Ru-B薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间变化,但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量良好,随着溅射时间的延长,薄膜表面晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率,进而影响薄膜的表面形貌。
殷聪朋,管伟明,张俊敏,刘洪江,陈勇,张昆华
昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室
摘 要:采用射频磁控溅射技术制备了Ru-B薄膜,利用掠入射X射线衍射(GIXRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进行了研究分析。结果表明:在室温下制备的Ru-B薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间变化,但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量良好,随着溅射时间的延长,薄膜表面晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率,进而影响薄膜的表面形貌。
关键词:金属材料;超硬薄膜;磁控溅射;Ru-B薄膜;表面形貌;