铜掺杂聚L-酪氨酸修饰电极同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸

来源期刊：分析试验室2011年第12期

论文作者：马伟 田相星 孙登明

文章页码：45 - 50

关键词：L-酪氨酸;尿酸;多巴胺;抗坏血酸;铜掺杂;化学修饰电极;同时测定;

摘    要：用循环伏安法制备铜掺杂聚L-酪氨酸修饰玻碳电极,研究了尿酸、抗坏血酸和多巴胺在修饰电极上的电化学行为,建立了同时测定尿酸、抗坏血酸和多巴胺的新方法。在pH 3.0磷酸盐缓冲溶液中,扫描速率为140 mV/s,多巴胺在修饰电极上产生一对氧化还原峰,峰电位分别为0.502 V、0.370 V,尿酸和抗坏血酸分别产生一氧化峰,峰电位分别为0.653 V和0.253V。尿酸、多巴胺的氧化峰分开达0.151 V,多巴胺和抗坏血酸的氧化峰分开达0.249 V,采用循环伏安法（CV法）和示差脉冲伏安法（DPVs法）,用氧化峰可同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸。CV法和DPVs法同时测定的线性范围分别为:UA:3.00×10-6～1.00×10-4mol/L（CV）、3.00×10-7～1.00×10-4mol/L（DPVs）;DA:1.00×10-6～1.00×10-4mol/L（CV）、1.00×10-7～1.00×10-5mol/L、1.00×10-5～1.00×10-4mol/L（DPVs）;AA:3.00×10-5～1.00×10-3mol/L（CV）、3.00×10-6～1.00×10-3mol/L（DPVs）。检出限分别为3.0×10-7、1.0×10-7、3.0×10-6 mol/L（CV）和1.0×10-8、1.0×10-8、1.0×10-7 mol/L（DPVs）。方法可用于人尿液和血清中尿酸、多巴胺和抗坏血酸的同时测定。