水杨酸分子印迹电化学传感器的制备及其性能研究
来源期刊:分析试验室2011年第6期
论文作者:王阳 宫倩倩 方铖 曹玉华
文章页码:82 - 85
关键词:分子印迹聚合物;水杨酸;方波伏安法;化妆品;
摘 要:以水杨酸作为模板分子,通过原位聚合法,在玻碳电极表面合成了水杨酸分子印迹聚合物膜,并用方波伏安法对该印迹电极进行了分析研究。当吸附时间为7 min时,印迹电极对水杨酸浓度响应的线性范围为1.0×10-5~2.6×10-4mol/L,检出限(S/N=3)为2.0×10-6mol/L,同一支印迹电极对水杨酸响应值的RSD为3.7%(n=7),该印迹电极对水杨酸具有良好的选择性,对结构相似的对羟基苯甲酸和对氨基苯甲酸的选择性系数分别为12和6.9。使用该分子印迹膜传感器对实际化妆品样品进行分析,加标回收率为99.9%~106.7%。
王阳,宫倩倩,方铖,曹玉华
江南大学化学与材料工程学院
摘 要:以水杨酸作为模板分子,通过原位聚合法,在玻碳电极表面合成了水杨酸分子印迹聚合物膜,并用方波伏安法对该印迹电极进行了分析研究。当吸附时间为7 min时,印迹电极对水杨酸浓度响应的线性范围为1.0×10-5~2.6×10-4mol/L,检出限(S/N=3)为2.0×10-6mol/L,同一支印迹电极对水杨酸响应值的RSD为3.7%(n=7),该印迹电极对水杨酸具有良好的选择性,对结构相似的对羟基苯甲酸和对氨基苯甲酸的选择性系数分别为12和6.9。使用该分子印迹膜传感器对实际化妆品样品进行分析,加标回收率为99.9%~106.7%。
关键词:分子印迹聚合物;水杨酸;方波伏安法;化妆品;