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大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光

来源期刊:工程科学学报2001年第1期

论文作者:刘敬明 蒋政 张恒大 吕反修 唐伟忠

文章页码:42 - 44

关键词:CVD金刚石膜;热铁板抛光;石墨;扩散;

摘    要:研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机.它可以在10-Pa真空条件下,加热到 1100℃;抛光台可以在0-10r/min间实现无级调速,一次完成3片φ110mm的金刚石膜的抛光.金刚石膜在980℃,2h抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果.金刚石膜在980℃抛光不同时间的Raman谱表明,金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和C原子不断扩散的过程.

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大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光

刘敬明,蒋政,张恒大,吕反修,唐伟忠

摘 要:研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机.它可以在10-Pa真空条件下,加热到 1100℃;抛光台可以在0-10r/min间实现无级调速,一次完成3片φ110mm的金刚石膜的抛光.金刚石膜在980℃,2h抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果.金刚石膜在980℃抛光不同时间的Raman谱表明,金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和C原子不断扩散的过程.

关键词:CVD金刚石膜;热铁板抛光;石墨;扩散;

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