大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光
来源期刊:工程科学学报2001年第1期
论文作者:刘敬明 蒋政 张恒大 吕反修 唐伟忠
文章页码:42 - 44
关键词:CVD金刚石膜;热铁板抛光;石墨;扩散;
摘 要:研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机.它可以在10-Pa真空条件下,加热到 1100℃;抛光台可以在0-10r/min间实现无级调速,一次完成3片φ110mm的金刚石膜的抛光.金刚石膜在980℃,2h抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果.金刚石膜在980℃抛光不同时间的Raman谱表明,金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和C原子不断扩散的过程.
刘敬明,蒋政,张恒大,吕反修,唐伟忠
摘 要:研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机.它可以在10-Pa真空条件下,加热到 1100℃;抛光台可以在0-10r/min间实现无级调速,一次完成3片φ110mm的金刚石膜的抛光.金刚石膜在980℃,2h抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果.金刚石膜在980℃抛光不同时间的Raman谱表明,金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和C原子不断扩散的过程.
关键词:CVD金刚石膜;热铁板抛光;石墨;扩散;