不同裂解升温速率制备的Cf/Si3N4复合材料性能研究
来源期刊：材料工程2002年第11期
论文作者：方晖 陈朝辉 郑文伟 马青松
关键词：陶瓷基复合材料; 裂解升温速率; 聚硅氮烷; 力学性能;
摘 要：以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以10℃/min裂解升温速率制得的陶瓷基复合材料的弯曲强度达604MPa.
方晖1，陈朝辉1，郑文伟1，马青松1
(1.国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,湖南长沙,410073)
摘要:以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以10℃/min裂解升温速率制得的陶瓷基复合材料的弯曲强度达604MPa.
关键词:陶瓷基复合材料; 裂解升温速率; 聚硅氮烷; 力学性能;
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