化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展
来源期刊：宇航材料工艺2016年第4期
论文作者：李琳琳 李爱军 彭雨晴 李照谦 汤哲鹏
文章页码：8 - 40
关键词：界面相涂层;氮化硼;化学气相沉积;三氯化硼;氨气;
摘 要：阐述了BN界面的优异性能和CVD制备工艺的优缺点,主要介绍了CVD-BN制备过程中沉积温度、源气体比例、热处理温度等各因素的影响,指出CVD法是制备高品质BN界面涂层的优选方法。优化CVD工艺,对其制备原理进行深入研究,将是BN界面涂层研究的重点,获得特定结构、性能稳定、厚度可控的BN界面相涂层是CVD法制备BN界面相涂层的难点。
李琳琳1，李爱军1，彭雨晴1，李照谦2，汤哲鹏1
1. 上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心2. 上海航天设备制造总厂
摘 要：阐述了BN界面的优异性能和CVD制备工艺的优缺点,主要介绍了CVD-BN制备过程中沉积温度、源气体比例、热处理温度等各因素的影响,指出CVD法是制备高品质BN界面涂层的优选方法。优化CVD工艺,对其制备原理进行深入研究,将是BN界面涂层研究的重点,获得特定结构、性能稳定、厚度可控的BN界面相涂层是CVD法制备BN界面相涂层的难点。
关键词：界面相涂层;氮化硼;化学气相沉积;三氯化硼;氨气;
