荧光标记聚天冬氨酸的合成及性能
来源期刊:高分子材料科学与工程2012年第8期
论文作者:高利军 丰九英 金蓓 张秋娜 刘天勤 伦旸清 吴照均
文章页码:22 - 54
关键词:荧光;聚天冬氨酸;咔唑;合成;阻垢剂;
摘 要:为实现聚天冬氨酸水处理剂浓度的准确快速检测,文中以聚琥珀酰亚胺、一乙醇胺、咔唑、环氧氯丙烷为主要原料合成了荧光标记聚天冬氨酸(Fluorescence Labeling Polyaspartic Acid,FLPASP)阻垢剂。通过红外光谱(IR)和核磁共振(1H-NMR)方法对各产物进行了结构表征;荧光光谱研究显示FLPASP具有很强的荧光强度,其水溶液质量浓度在阻垢剂使用浓度2mg/L10mg/L范围内与荧光强度呈良好线性关系,而且水中常见垢源物质Ca2+和HCO-3对FLPASP的荧光强度无影响;静态阻垢试验表明,FLPASP具有优异的阻磷酸钙垢和良好的阻碳酸钙垢性能。
高利军,丰九英,金蓓,张秋娜,刘天勤,伦旸清,吴照均
湛江师范学院化学科学与技术学院广东高校新材料工程技术开发中心
摘 要:为实现聚天冬氨酸水处理剂浓度的准确快速检测,文中以聚琥珀酰亚胺、一乙醇胺、咔唑、环氧氯丙烷为主要原料合成了荧光标记聚天冬氨酸(Fluorescence Labeling Polyaspartic Acid,FLPASP)阻垢剂。通过红外光谱(IR)和核磁共振(1H-NMR)方法对各产物进行了结构表征;荧光光谱研究显示FLPASP具有很强的荧光强度,其水溶液质量浓度在阻垢剂使用浓度2mg/L10mg/L范围内与荧光强度呈良好线性关系,而且水中常见垢源物质Ca2+和HCO-3对FLPASP的荧光强度无影响;静态阻垢试验表明,FLPASP具有优异的阻磷酸钙垢和良好的阻碳酸钙垢性能。
关键词:荧光;聚天冬氨酸;咔唑;合成;阻垢剂;