Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能
来源期刊：材料研究学报2003年第2期
论文作者：吴雪梅 诸葛兰剑 姚伟国
关键词：金属材料; 磁性能; 离子束溅射; FeAlN薄膜; 热稳定性;
摘 要：用双离子束溅射法在(100)硅片和NaCl单晶基片上制备出FeAlN薄膜,研究了主源气氛和基片温度对FeAlN薄膜的结构及磁性能的影响.在基片温度较高或主源中氮的含量较低时,FeAlN薄膜有较高的饱和磁化强度Ms.加入Al使薄膜的晶粒细化,也使其矫顽力下降,热稳定性提高.在500℃退火后,Al的原子分数为10.0%的FeAlN薄膜仍具有较好的软磁性能,饱和磁化强度Ms和矫顽力He分别为2.02 T和0.96 kA/m.
吴雪梅1，诸葛兰剑1，姚伟国1
(1.苏州大学)
摘要:用双离子束溅射法在(100)硅片和NaCl单晶基片上制备出FeAlN薄膜,研究了主源气氛和基片温度对FeAlN薄膜的结构及磁性能的影响.在基片温度较高或主源中氮的含量较低时,FeAlN薄膜有较高的饱和磁化强度Ms.加入Al使薄膜的晶粒细化,也使其矫顽力下降,热稳定性提高.在500℃退火后,Al的原子分数为10.0%的FeAlN薄膜仍具有较好的软磁性能,饱和磁化强度Ms和矫顽力He分别为2.02 T和0.96 kA/m.
关键词:金属材料; 磁性能; 离子束溅射; FeAlN薄膜; 热稳定性;
【全文内容正在添加中】
