取向对PLD法制备BiFeO₃薄膜性能的影响

来源期刊：功能材料2013年第13期

论文作者：黄艳芹

文章页码：1932 - 1935

关键词：BiFeO3薄膜;铁电铁磁性;激光脉冲沉积(PLD);

摘    要：以快速等离子烧结法（SPS）制备的BiFeO3块体为靶材,用激光脉冲沉积（PLD）法在不同衬底上制备了BiFeO3（100）/LaNiO3（100）/Si（100）、BiFeO3（111）/LaNiO3（111）/SrTiO3（111）、BiFeO3（110）/Pt/TiO2/SiO2/Si、BiFeO3（110）LaNiO3（110）/Pt/TiO2/SiO2/Si不同择优取向的薄膜,并对薄膜进行了XRD和SEM分析。X射线衍射结果表明,BiFeO3薄膜外延沉积在导电层衬底上,并且它们具有相同的高度取向。SEM分析表明,薄膜上的晶粒是柱状形态,表面光滑致密且颗粒分布非常均匀,晶粒的边界和尺寸也能被清晰地观察到。通过铁电铁磁性能研究,BiFeO3（111）择优取向性能最佳。SrTiO3衬底上（111）取向的BiFeO3薄膜铁电剩余极化值达到了30.3μC/cm2,漏电流为1.0×10-3 A/cm2,饱和磁化强度为20.0kA/m。