多弧离子镀法制备TiAlNC涂层的微观结构

来源期刊：材料热处理学报2017年第2期

论文作者：吴王平 蒋金金 王辉 江鹏 王知鸷 孔德军

文章页码：164 - 167

关键词：TiAlNC;涂层;微观结构;多弧离子镀;

摘    要：在碳化钨硬质合金WC-6%Co基体上采用多弧离子镀技术制备Ti Al NC涂层,采用扫描电镜和透射电镜观察涂层的微观组织结构,采用X射线衍射仪和X射线能谱分析仪分别确定涂层的物相及其化学成分。实验结果表明:涂层表面粗糙但均匀连续,且表面出现孔隙和少量的微裂纹;涂层与基体结合较好,无分层现象出现,其沉积速率约4.5μm/h。涂层的平均化学组成为Ti（20±9 at%）,Al（16±5 at%）,N（39±5 at%）和C（25±10 at%）,涂层由纳米晶Ti N和非晶（Ti,Al）（N,C）两物相组成。