不同Hf含量IrO2-HfO2涂层电极材料的电容性能
来源期刊：材料热处理学报2013年第12期
论文作者：刘雪华 张静 王欣 邹琦 陈永毅 朱君秋 颜琦 唐电
文章页码：155 - 160
关键词：IrO2-HfO2;电极;电容;涂层;
摘 要：采用热分解法制备Ti/IrO2-HfO2二元氧化物涂层电极。通过X射线衍射（XRD）研究了不同Ir/Hf配比涂层的结构特征;采用循环伏安（CV）方法分析了不同电极涂层的比电容、"内/外活性"及电极稳定性,并初步讨论了电极稳定性与涂层结构间的关系。结果表明,添加Hf可改善涂层结构、提高比电容及电极稳定性、且当涂层中HfO2达到50 mol%时电极活性最高、稳定性最佳。
刘雪华1，张静1，王欣1，邹琦1，陈永毅2，朱君秋2，颜琦2，唐电2
1. 福州大学材料科学与工程学院2. 福州大学材料研究所
摘 要：采用热分解法制备Ti/IrO2-HfO2二元氧化物涂层电极。通过X射线衍射（XRD）研究了不同Ir/Hf配比涂层的结构特征;采用循环伏安（CV）方法分析了不同电极涂层的比电容、"内/外活性"及电极稳定性,并初步讨论了电极稳定性与涂层结构间的关系。结果表明,添加Hf可改善涂层结构、提高比电容及电极稳定性、且当涂层中HfO2达到50 mol%时电极活性最高、稳定性最佳。
关键词：IrO2-HfO2;电极;电容;涂层;
