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WO3薄膜的磁控溅射法制备及电致变色性能

来源期刊:材料导报2017年第S2期

论文作者:金良茂 汤永康 甘治平 李刚 金克武 杨勇 彭塞奥 王天齐

文章页码:140 - 144

关键词:WO3薄膜;电致变色;磁控溅射;

摘    要:采用直流反应磁控溅射制备了具有优异电致变色性能的WO3薄膜。通过对成膜参数的调控,实现了低功率和短溅射时间的制膜制度,获得了较宽的工艺范围。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、光学轮廓仪、电化学工作站、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的物相、微观结构、厚度、电致变色性能。研究表明:在溅射功率为50 W,溅射压强为2.0 Pa,反应气体流量为20 sccm时所制得的薄膜性能最为优越。所制备薄膜具有较短的变色响应时间和大幅度的变色调制幅度,其对可见光变色调制幅度达到80%。

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WO3薄膜的磁控溅射法制备及电致变色性能

金良茂,汤永康,甘治平,李刚,金克武,杨勇,彭塞奥,王天齐

蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃新技术国家重点实验室

摘 要:采用直流反应磁控溅射制备了具有优异电致变色性能的WO3薄膜。通过对成膜参数的调控,实现了低功率和短溅射时间的制膜制度,获得了较宽的工艺范围。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、光学轮廓仪、电化学工作站、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的物相、微观结构、厚度、电致变色性能。研究表明:在溅射功率为50 W,溅射压强为2.0 Pa,反应气体流量为20 sccm时所制得的薄膜性能最为优越。所制备薄膜具有较短的变色响应时间和大幅度的变色调制幅度,其对可见光变色调制幅度达到80%。

关键词:WO3薄膜;电致变色;磁控溅射;

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