Mo缓冲层在溅射ZnO薄膜中的应用
来源期刊：中国钼业2012年第5期
论文作者：吴思诚 王旋 范海波 郑新亮 姚合宝 赵宝华
文章页码：37 - 40
关键词：磁控溅射;ZnO薄膜;Mo薄膜;缓冲层;
摘 要：ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景。本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜。通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用。
吴思诚1，王旋1，范海波1，郑新亮1，姚合宝1，赵宝华2
1. 西北大学物理学系2. 金堆城钼业股份有限公司技术中心
摘 要：ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景。本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜。通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用。
关键词：磁控溅射;ZnO薄膜;Mo薄膜;缓冲层;
