靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响
来源期刊：功能材料2011年第5期
论文作者：刘增机 纪全 张浴晖 夏延致 王凤军
文章页码：918 - 920
关键词：射频磁控溅射;靶基距;AFM;XPS;接触角;
摘 要：采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯（PT-FE）为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜。用原子力显微镜（AFM）、X射线光电子能谱（XPS）和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究。结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平。这种氟碳膜由—CF3、—CF2—、—CF—和—C—4个组分构成,靶基距从30mm增加到80mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势。随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能。
刘增机1,2，纪全1,2，张浴晖1，夏延致1,2，王凤军1,2
1. 青岛大学化工学院2. 青岛大学纤维新材料与现代纺织国家重点实验室培育基地
摘 要：采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯（PT-FE）为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜。用原子力显微镜（AFM）、X射线光电子能谱（XPS）和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究。结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平。这种氟碳膜由—CF3、—CF2—、—CF—和—C—4个组分构成,靶基距从30mm增加到80mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势。随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能。
关键词：射频磁控溅射;靶基距;AFM;XPS;接触角;
