X射线反射法分析ZnO基薄膜的厚度、密度和表面粗糙度

来源期刊：理化检验物理分册2010年第12期

论文作者：徐光亮 赵德友 刘桂香

文章页码：757 - 760

关键词：X射线反射;ZnO基薄膜;薄膜参数;曲线拟合;

摘    要：采用X射线反射法（XRR）测试了在SiO₂玻璃衬底上磁控溅射沉积的单层ZnO基薄膜的反射强度,得到了反射强度随掠入射角变化的曲线;讨论了薄膜厚度、密度和表面粗糙度与反射曲线的关系,最后通过拟合XRR曲线获得了所制备薄膜的厚度、密度和表面粗糙度分别为55.8 nm,5.5 g·cm^-3和1.7 nm,与利用XRR数据直接计算出的薄膜厚度56.2 nm仅相差0.4 nm,表面粗糙度也与AFM测试的结果基本相符。可见XRR能无损伤、精确且快速地测试薄膜试样的厚度、密度和表面粗糙度等参数。