低能量离子束辐照磁控溅射沉积超硬质nc-TiN/nc-Cu纳米复合膜
来源期刊：金属学报2006年第9期
论文作者：三宅正司 俞海良 李铸国 吴毅雄
关键词：磁控溅射; 离子照射; 纳米复合膜; 硬度;
摘 要：利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0-10.0%的Ti-Cu-N膜,研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响.结果表明,添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度.Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性,硬度HV达到42,约为纯TiN薄膜硬度的2倍.超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜,具有柱状晶结构.薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构.
三宅正司1，俞海良2，李铸国2，吴毅雄2
(1.近畿大学,大阪,577-8502,日本;
2.上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030)
摘要:利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0-10.0%的Ti-Cu-N膜,研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响.结果表明,添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度.Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性,硬度HV达到42,约为纯TiN薄膜硬度的2倍.超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜,具有柱状晶结构.薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构.
关键词:磁控溅射; 离子照射; 纳米复合膜; 硬度;
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