表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善

来源期刊：材料科学与工程学报2013年第6期

论文作者：贾绍辉 张淮凌 孙徐兴 刘涌 韩高荣

文章页码：799 - 1620

关键词：Low-E;氮化硅;氧掺杂;

摘    要：低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比。目前较为常见的单银高透Low-E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高。通过对单银高透Low-E表面覆层Si3N4薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3Nx Oy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low-E产品的可加工性。表层改性对于提升单银高透Low-E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义。