简介概要

直流磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜及性能研究

来源期刊：材料导报2009年第6期

论文作者：刘汉法袁长坤类成新张化福

关键词：ZnO; Zr薄膜; 磁控溅射; 薄膜厚度; 透明导电薄膜;

摘要：利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO光电性能的影响.研究结果表明,厚度对薄膜的结构和电学性能有很大的影响.制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有C轴择优取向.在厚度为593nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3Ω·cm.所制备薄膜样品的可见光平均透过率都超过93%.

详情信息展示

刘汉法¹，袁长坤¹，类成新¹，张化福¹

(1.山东理工大学物理与光电信息技术学院,淄博,255049)

摘要:利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO光电性能的影响.研究结果表明,厚度对薄膜的结构和电学性能有很大的影响.制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有C轴择优取向.在厚度为593nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3Ω·cm.所制备薄膜样品的可见光平均透过率都超过93%.

关键词:ZnO; Zr薄膜; 磁控溅射; 薄膜厚度; 透明导电薄膜;

【全文内容正在添加中】