辉光放电质谱法测定高纯锆中36种痕量杂质元素

来源期刊：冶金分析2019年第5期

论文作者：墨淑敏 王长华 李娜 潘元海

文章页码：13 - 18

关键词：高纯锆;辉光放电质谱法(GDMS);痕量杂质;电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）;

摘    要：测定锆及锆合金中杂质元素的研究较为常见,而针对高纯锆中化学成分检测的相关研究较少。在讨论各杂质元素质谱干扰的基础上,通过选择合适的同位素及分辨率,建立了辉光放电质谱法（GDMS）测定高纯锆中Na、Al、Si、P、Ti、V、Cr、Fe等36种痕量杂质元素的分析方法。对仪器参数进行了优化,最终选择氩气流量为370mL/min,放电电流为32mA,预溅射时间为15min。利用建立的实验方法对高纯锆样品中痕量杂质元素进行了测定,测定结果的相对标准偏差（RSD,n=7）均小于30%,质量分数大于0.1μg/g的杂质元素的RSD（n=7）均小于10%。采用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）进行了方法比对,实验方法与ICP-MS的结果具有一致性。