共沉淀分离-氢化物发生-原子荧光光谱法测定高纯偏钨酸铵中痕量铋
来源期刊:分析试验室2010年第12期
论文作者:张殿凯 郑永章 臧慕文 童坚
文章页码:70 - 72
关键词:共沉淀;氢化物发生;原子荧光光谱法;偏钨酸铵;铋;
摘 要:提出了以氢氧化镧为共沉淀剂,对高纯偏钨酸铵中痕量杂质元素铋进行共沉淀分离富集后以HG-AFS进行测定的方法。在强碱性环境中进行两次共沉淀,能使铋元素定量分离回收,偏钨酸铵残留量降至很低水平。选择了适宜的反应条件以及仪器的最佳工作条件,考察了钨基体对被测元素的干扰。铋的检出限0.020 ng/mL,测定下限0.012μg/g,相对标准偏差4.6%,回收率在92.8%108.4%之间,方法适用于高纯偏钨酸铵中痕量铋的测定。
张殿凯,郑永章,臧慕文,童坚
北京有色金属研究总院
摘 要:提出了以氢氧化镧为共沉淀剂,对高纯偏钨酸铵中痕量杂质元素铋进行共沉淀分离富集后以HG-AFS进行测定的方法。在强碱性环境中进行两次共沉淀,能使铋元素定量分离回收,偏钨酸铵残留量降至很低水平。选择了适宜的反应条件以及仪器的最佳工作条件,考察了钨基体对被测元素的干扰。铋的检出限0.020 ng/mL,测定下限0.012μg/g,相对标准偏差4.6%,回收率在92.8%108.4%之间,方法适用于高纯偏钨酸铵中痕量铋的测定。
关键词:共沉淀;氢化物发生;原子荧光光谱法;偏钨酸铵;铋;