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氮掺杂氟化非晶碳薄膜光学性质的研究

来源期刊:材料科学与工程学报2006年第4期

论文作者:刘雄飞 周昕

关键词:氮掺杂; 氟化非晶碳薄膜; 光学带隙;

摘    要:用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备氮掺杂氟化非晶碳(a-C:F:N)薄膜.用紫外-可见分光光谱仪、椭偏仪、傅立叶变换红外光谱仪对薄膜进行了检测.结果表明:随源气体中氮气含量的增加,光学带隙先减小后升高,折射率变化情况与之相反.在其它条件相同的情况下,升高沉积温度使得薄膜的光学带隙和折射率降低.光学带隙的大小与sp2键含量密切相关,sp2键浓度越大,薄膜的光学带隙越小.

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氮掺杂氟化非晶碳薄膜光学性质的研究

刘雄飞1,周昕1

(1.中南大学物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083)

摘要:用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备氮掺杂氟化非晶碳(a-C:F:N)薄膜.用紫外-可见分光光谱仪、椭偏仪、傅立叶变换红外光谱仪对薄膜进行了检测.结果表明:随源气体中氮气含量的增加,光学带隙先减小后升高,折射率变化情况与之相反.在其它条件相同的情况下,升高沉积温度使得薄膜的光学带隙和折射率降低.光学带隙的大小与sp2键含量密切相关,sp2键浓度越大,薄膜的光学带隙越小.

关键词:氮掺杂; 氟化非晶碳薄膜; 光学带隙;

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