氟化非晶碳(a-C:F)薄膜的研究
来源期刊：材料导报2003年第10期
论文作者：肖剑荣 刘雄飞 李幼真 张云芳
关键词：氟化非晶碳薄膜; 介电常数; 光学带隙; 热稳定性; 化学气相沉积;
摘 要：氟化非晶碳(a-C:F)薄膜是一种电、光学新材料.介绍了它的制备方法,对其制备工艺作了较全面的探讨;分析了该膜制备方法和工艺参数对薄膜组分及化学键结构的影响;研究了该膜的电学、光学、热学、力学等物理性质及其在相关方面的应用,并对该膜的物理性质与制备工艺参数的关联作了详细的论述;指出介电常数和热稳定性的矛盾是阻碍该膜实用化的主要原因.
肖剑荣1，刘雄飞1，李幼真1，张云芳1
(1.中南大学物理科学与技术学院,长沙,410083)
摘要:氟化非晶碳(a-C:F)薄膜是一种电、光学新材料.介绍了它的制备方法,对其制备工艺作了较全面的探讨;分析了该膜制备方法和工艺参数对薄膜组分及化学键结构的影响;研究了该膜的电学、光学、热学、力学等物理性质及其在相关方面的应用,并对该膜的物理性质与制备工艺参数的关联作了详细的论述;指出介电常数和热稳定性的矛盾是阻碍该膜实用化的主要原因.
关键词:氟化非晶碳薄膜; 介电常数; 光学带隙; 热稳定性; 化学气相沉积;
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