锇化学机械抛光过程中表面活性剂的作用研究

来源期刊：稀有金属材料与工程2016年第3期

论文作者：白林山 梁淼 储向峰 董永平 张王兵

文章页码：798 - 801

关键词：化学机械抛光;锇;表面活性剂;电化学;

摘    要：利用化学机械抛光方法对锇基片进行表面平坦化处理,通过自制抛光液研究不同表面活性剂对锇化学机械抛光效果的影响。采用电化学分析方法和X射线光电子能谱（XPS）仪分析表面活性剂对锇抛光的影响,利用原子力显微镜（AFM）观察抛光后锇的表面形貌。结果表明:加入四甲基氢氧化铵（TMAOH）后,金属锇的去除速率从5.8 nm/min降低到2.9 nm/min,同时锇表面粗糙度从2.1 nm上升到4.8 nm;聚乙二醇400（PEG-400）、六偏磷酸钠（SHMP）、十二烷基磺酸钠（SDS）3种表面活性剂虽然可以提高金属锇的抛光速率,但是在改善锇表面质量方面并没有帮助;十二烷基硫酸钠（SLS）和十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）不仅可以提高金属锇的抛光速率,而且可以得到更好的表面平坦化效果,其中十六烷基三甲基溴化铵效果更加明显,可以将锇表面粗糙度（Ra）降低到0.57 nm,同时将抛光速率提高到14.6 nm/min。